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martes, 14 de agosto de 2012
Oxidación seca
Antes de ser sometidas a oxidación, las obleas de silicio se limpian con un detergente diluido en agua y se enjuagan con xileno, alcohol isopropílico u otros disolventes. Las obleas limpias se secan, se cargan en un soporte de obleas de cuarzo denominado bote y se depositan en el extremo del operador (extremo de carga) del tubo o celda del horno de difusión de cuarzo. El extremo de entrada del tubo (extremo fuente) suministra oxígeno de gran pureza o una mezcla de oxígeno y nitrógeno. El flujo del oxígeno “seco” al interior del tubo de cuarzo se controla para garantizar que exista un exceso de oxígeno que facilite el crecimiento del dióxido de silicio sobre la superficie de la oblea de silicio. La reacción química básica es:
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MICROELECTRONICA Y SEMICONDUCTORES
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