Sistemas de fotoprotección.

Ultravioleta

Cercano (350–450 nm)                 Negativos                                       PB              Goma alifática de base azida (isopreno)

S               acetato de n-butilo, xileno, n-metil-2-pirrolidona, etilbenceno

D               Xileno, hidrocarburos alifáticos, acetato de n-butilo, disolvente de Stoddard (producto

de la destilación del petróleo)

Positivos	PB	Orto-diazocetona
	S	Acetato de éter-monometil-glicol-propileno, lactato de etilo, metoxi-propionato de

Lejano (200–250 nm)                 Protectores principalmente positivos

Haz de electrones (en torno a 100 nm)

metilo, etoxi-propionato de etilo, acetato de n-butilo, xileno, clorotolueno

D               Hidróxido sódico, silicatos, hidróxido potásico

Rayos X (0,5–5 nm)

Negativos                                       PB              Copolímero-acrilato de etilo y metacrilato de glicidilo (COP)

S               n/a

D               n/a

Positivos                                        PB              Polimetilmetacrilato, polifluoralquilmetacrilato, polialquilaldehído, poli-ciano etilacrilato

S               Acetato de éter-monometil-glicol-propileno

D               Alcalinos o IPA, acetato de etilo o metil-isobutil cetona (MIBK)

Negativos	PB	Copolímero-acrilato de etilo y metacrilato de glicidilo (COP)
	S	n/a
	D	n/a
Positivos	PB	Polimeilmetatacrilato, orto-diazocetona, (poli) hexafluorobutilmetacrilato, (poli)

buteno-1-sulfona

S               Acetato de éter-monometil-glicol-propileno

D               n/a

PB = base de polímeros; S = disolvente; D = revelador.