miércoles, 9 de enero de 2013

Sistemas de fotoprotección.



Ultravioleta
Cercano (350–450 nm)                 Negativos                                       PB              Goma alifática de base azida (isopreno)
S               acetato de n-butilo, xileno, n-metil-2-pirrolidona, etilbenceno
D               Xileno, hidrocarburos alifáticos, acetato de n-butilo, disolvente de Stoddard (producto
de la destilación del petróleo)
Positivos
PB
Orto-diazocetona

S
Acetato de éter-monometil-glicol-propileno, lactato de etilo, metoxi-propionato de





Lejano (200–250 nm)                 Protectores principalmente positivos
Haz de electrones (en torno a 100 nm)

metilo, etoxi-propionato de etilo, acetato de n-butilo, xileno, clorotolueno
D               Hidróxido sódico, silicatos, hidróxido potásico










Rayos X (0,5–5 nm)

Negativos                                       PB              Copolímero-acrilato de etilo y metacrilato de glicidilo (COP)
S               n/a
D               n/a
Positivos                                        PB              Polimetilmetacrilato, polifluoralquilmetacrilato, polialquilaldehído, poli-ciano etilacrilato
S               Acetato de éter-monometil-glicol-propileno
D               Alcalinos o IPA, acetato de etilo o metil-isobutil cetona (MIBK)

Negativos
PB
Copolímero-acrilato de etilo y metacrilato de glicidilo (COP)

S
n/a

D
n/a
Positivos
PB
Polimeilmetatacrilato, orto-diazocetona, (poli) hexafluorobutilmetacrilato, (poli)
buteno-1-sulfona
S               Acetato de éter-monometil-glicol-propileno
D               n/a

PB = base de polímeros; S = disolvente; D = revelador.

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