Aplicación de protector

Las obleas se recubren con un material protector de polímero basado en disolvente y luego se hacen girar a gran velocidad en una centrifugadora, que distribuye el protector en una capa delgada
y uniforme. Luego se evaporan los disolventes, que dejan una película de polímero. Todos los materiales protectores dependen de los cambios inducidos por la radiación (sobre todo ultravioleta) en la solubilidad de un polímero orgánico sintético en el enjuagado con un revelador determinado. Los materiales protec- tores se clasifican en negativos o positivos, según su solubilidad en el revelador disminuya (negativos) o aumente (positivos) con la exposición a la radiación. En la Tabla 83.1 se identifica la consti- tución de componentes de diversos sistemas de fotoprotección. Como la mayoría de los fotoprotectores son sensibles a la luz ultravioleta (UV), la zona de procesamiento se ilumina con luces amarillas especiales que carecen de las longitudes de onda UV, que serían perturbadoras (véase la Figura 83.4).
Los protectores de UV negativos y positivos son los más empleados en el sector, pero los protectores de haces de electrones y de rayos X están ganando cuota de mercado por sus mayores resoluciones. Las preocupaciones en materia de salud en litografía se centran ante todo en los peligros reproductivos potenciales que se asocian a determinados protectores positivos (p. ej., acetato de etilenglicol monoetil éter como portador) que en la actualidad se están eliminando en el sector. Los olores ocasionales de los protectores negativos (p. ej., el xileno) también preocupan a los trabajadores. El conjunto de estas preocupa- ciones hace que los higienistas industriales del sector de semi- conductores empleen bastante tiempo en el muestreo de las operaciones de fotoprotección. Aunque el muestreo es útil para caracterizar estas operaciones, se sabe que las exposiciones normales durante las operaciones de centrifugación y revelado suelen ser inferiores al 5 % de la exposición profesional normal debido al contenido en el aire de los disolventes utilizados en el proceso (Scarpace y cols. 1989).
Durante 1 hora de funcionamiento de un sistema de centrifu- gación, se observó una exposición de 6,3 ppm al acetato de etilenglicol monoetil éter. Esta exposición se debió sobre todo a prácticas de trabajo deficientes durante la operación de mante- nimiento (Baldwin, Rubin y Horowitz 1993).