Alineación de máscara y exposición (I)

La máscara y la oblea se sitúan en estrecha proximidad con la ayuda de un equipo óptico/mecánico de precisión, y la imagen de la máscara se alinea con cualquier posible patrón ya existente en la oblea debajo de la capa de fotoprotección. La primera máscara no necesita alineación. En tecnologías más antiguas, la alineación de las capas sucesivas se hace posible con ayuda de un
“biscopio” (microscopio de doble lente) y controles de precisión para poner en posición la oblea en relación con la máscara. En tecnologías más modernas, la alineación es automática con ayuda de puntos de referencia sobre las obleas.
Una vez lograda la alineación, una luz ultravioleta de gran intensidad, procedente de una fuente constituida por una lámpara de vapor de mercurio o una lámpara de arco, atraviesa la máscara y expone el protector de los lugares no protegidos por las regiones opacas de la máscara.
Los diversos métodos de alineación y exposición de la oblea son la exposición a un torrente de luz UV (por contacto o proximidad), la exposición UV mediante lente de proyección para reducción (proyección), fase UV y repetición de exposición para reducción (proyección), exposición a un torrente de rayos X
(proximidad) y exposición a un haz de electrones (escritura directa). El método principal utilizado consiste en la exposición a radiación UV con lámparas de vapor de mercurio y de arco mediante alineadores por proximidad o proyección. Los protec- tores de UV están diseñados para reaccionar a un espectro amplio de longitudes de onda UV, o formulados para reaccionar con preferencia a una o más de las líneas principales del espectro emitido desde la lámpara (p. ej., línea g a 435 nm, línea h a 405 nm y línea i a 365 nm).